低温炭素化

アセチレンから300℃での低温グラフェン形成を実現 ―未利用・余剰炭化水素ガスの高機能カーボン材料化に期待―

2026-06-09 東北大学東北大学とロンドン大学クイーンメアリー校の研究グループは、酸化セリウム（CeO₂）表面の酸素空孔を利用することで、従来約900℃を要したグラフェン系材料の化学気相成長（CVD）を300℃という低温で実現した。◆...

2026-06-09

0505化学装置及び設備