EUV露光装置

世界最高精度で曲面ミラーの形状を測る装置を開発 -EUV露光装置などに用いられる光学素子形状を、2ナノメートル精度で非接触測定- 0110情報・精密機器

世界最高精度で曲面ミラーの形状を測る装置を開発 -EUV露光装置などに用いられる光学素子形状を、2ナノメートル精度で非接触測定-

2026-07-06 産業技術総合研究所産業技術総合研究所(産総研)は、EUV露光装置や放射光施設などで用いられる高精度曲面ミラーの絶対形状を、非接触で世界最高水準となる2ナノメートル精度で測定できる新しい形状測定装置を開発した。従来の干渉...
新型High-NA(高開口数)リソグラフィーが、先端半導体チップに革命をもたらす可能性 1601コンピュータ工学

新型High-NA(高開口数)リソグラフィーが、先端半導体チップに革命をもたらす可能性

2026-06-16 沖縄科学技術大学院大学沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹積教授は、次世代半導体製造の中核技術である高開口数(High-NA)EUVリソグラフィ向けに、新しい光学系設計を提案した。EUVリソグラフィは13.5nmの...
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