新竹積

新型High-NA(高開口数)リソグラフィーが、先端半導体チップに革命をもたらす可能性 1601コンピュータ工学

新型High-NA(高開口数)リソグラフィーが、先端半導体チップに革命をもたらす可能性

2026-06-16 沖縄科学技術大学院大学沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹積教授は、次世代半導体製造の中核技術である高開口数(High-NA)EUVリソグラフィ向けに、新しい光学系設計を提案した。EUVリソグラフィは13.5nmの...
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