0704表面技術 ステップアンバンチング現象の発見 ~半導体表面を原子レベルで平坦にする新技術~
2023-07-20 早稲田大学発表のポイント 従来の半導体製造技術では、SiCウェハ表面を非常に平坦にできるものの加工によるダメージ層が残ったり、ダメージ層はないものの表面が荒くなったりしてデバイス特性に悪影響を及ぼすという課題がありまし...
0704表面技術
0505化学装置及び設備
1700応用理学一般
2000原子力放射線一般
1702地球物理及び地球化学
1701物理及び化学
0402電気応用
1701物理及び化学
2000原子力放射線一般
1602ソフトウェア工学
1600情報工学一般
2004放射線利用