0704表面技術 ステップアンバンチング現象の発見 ~半導体表面を原子レベルで平坦にする新技術~
2023-07-20 早稲田大学発表のポイント 従来の半導体製造技術では、SiCウェハ表面を非常に平坦にできるものの加工によるダメージ層が残ったり、ダメージ層はないものの表面が荒くなったりしてデバイス特性に悪影響を及ぼすという課題がありまし...
0704表面技術
2001原子炉システムの設計及び建設
1700応用理学一般
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2004放射線利用
2001原子炉システムの設計及び建設
1700応用理学一般
2005放射線防護
2000原子力放射線一般