半導体微細化

極薄トランジスタが次世代省エネルギーチップを前進させる(Extremely thin transistors bring future energy-efficient chips a step closer) 0403電子応用

極薄トランジスタが次世代省エネルギーチップを前進させる(Extremely thin transistors bring future energy-efficient chips a step closer)

2026-07-06 チャルマース工科大学スウェーデンのチャルマース工科大学の研究チームは、将来の超低消費電力半導体の実現に向け、原子数層レベルまで薄い二次元半導体を用いた高性能トランジスタを開発した。半導体微細化が物理的限界に近づく中、二...
先端ロジック半導体のゲート絶縁膜の新技術を開発:界面層の薄層化とダイポール層への新規材料の導入によりトランジスタの性能向上へ 0403電子応用

先端ロジック半導体のゲート絶縁膜の新技術を開発:界面層の薄層化とダイポール層への新規材料の導入によりトランジスタの性能向上へ

2026-06-09 東京大学技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC)は、NEDO事業の一環として、2nm世代以降(Beyond 2nm)の先端ロジック半導体向け新型ゲート絶縁膜技術を開発した。研究では、ゲート絶縁膜中のシリコン酸化...
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