0403電子応用

トポロジカル母物質のキャリア制御に成功 0403電子応用

トポロジカル母物質のキャリア制御に成功

非散逸なトポロジカル伝導現象の低消費電力エレクトロニクスへの応用に向けて 2018-05-19 東京大学 理化学研究所 科学技術振興機構(JST) ポイント トポロジカル物質の母物質にあたるトポロジカル半金属について、化学置換と電界効果によ...
トポロジカルな量子バレー流を観測 0403電子応用

トポロジカルな量子バレー流を観測

高移動度グラフェン超格子デバイスの作製により成功 量子エレクトロニクスへの展開に期待 2018-05-19 国立研究開発法人 物質・材料研究機構 国立大学法人 群馬大学 NIMSと群馬大学は、高い移動度を持つグラフェン超格子デバイスを作製し...
窒化ガリウム (GaN) ウエハ全面の「ゆがみ」をすばやく詳細に可視化する新手法を開発 0403電子応用

窒化ガリウム (GaN) ウエハ全面の「ゆがみ」をすばやく詳細に可視化する新手法を開発

窒化ガリウム (GaN) 半導体の直径2インチウエハ結晶面の「ゆがみ」を、ウエハ全面を一度に、しかも数10マイクロメートルの空間分解能で可視化する新たな評価手法を開発しました。
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全固体電池向けシリコン負極の高安定動作に成功 0403電子応用

全固体電池向けシリコン負極の高安定動作に成功

ナノ多孔構造の導入により実現 高容量化による電気自動車の航続距離大幅延伸へ期待 2018/05/14 国立研究開発法人 物質・材料研究機構 NIMSは、安全で高い信頼性を有する全固体リチウム電池の高容量化に貢献する技術として、ナノ多孔構造を...
わずか2分子の厚みの超極薄×大面積の半導体を開発 0403電子応用

わずか2分子の厚みの超極薄×大面積の半導体を開発

半導体の膜厚を分子レベルで制御するため、π電子骨格に連結したアルキル鎖の長さが自由に変えられるという特長を活かす、新たな製膜法を開発しました。従来の常識を大きく超える大面積にわたって究極の薄さをたもつ、きわめて高均質かつ高性能な超極薄半導体が得られました。
生体内で神経を光刺激する世界最小のワイヤレス型デバイスを開発 0403電子応用

生体内で神経を光刺激する世界最小のワイヤレス型デバイスを開発

赤外光によるエネルギー伝送方式により、世界最小の生体埋め込み対応ワイヤレス型光刺激デバイスを開発しました。
磁性絶縁体を用いてグラフェンのスピンの向きを制御 0403電子応用

磁性絶縁体を用いてグラフェンのスピンの向きを制御

グラフェン回路を用いたスピントランジスタの実現にかかせない電子スピンの向きを制御する新技術の開発に成功しました。
シリコンチップ上のグラフェン高速発光素子を開発 0403電子応用

シリコンチップ上のグラフェン高速発光素子を開発

シリコンチップ上で動作する高速なグラフェン発光素子を開発し、その発光素子を使った光通信を実演するとともに、光のオン/オフを高速に変化(高速変調)できるメカニズムも新たに発見しました。
大電流で連続安定動作する絶縁ゲート型GaNパワートランジスタを開発 0403電子応用

大電流で連続安定動作する絶縁ゲート型GaNパワートランジスタを開発

従来のGaNパワートランジスタ技術では困難であった連続安定動作を20Aの大電流で可能とする絶縁ゲート型GaNパワートランジスタを開発しました。
磁気トンネル接合素子、未踏の一桁ナノメートル領域で動作実現 0403電子応用

磁気トンネル接合素子、未踏の一桁ナノメートル領域で動作実現

超低消費電力高性能ワーキングメモリとしての実用化が期待されるSTT-MRAMの主要構成要素である磁気トンネル接合素子の新しい方式を提案し、世界最小となる一桁ナノメートルサイズでの動作実証に成功しました。
次世代不揮発性磁気メモリーの新しい記録技術を開発 0403電子応用

次世代不揮発性磁気メモリーの新しい記録技術を開発

配線の一部材料に磁石を用いることで高信頼・高性能化 2018-02-13 産総研 ポイント 面内電流型磁気メモリーにおいて異常ホール効果を利用した新しい記録技術を実現 配線の一部に安価な鉄を基本とした磁石材料を用いることで高い記録効率が得ら...
世界初、印刷エレクトロニクスに最適な半導体型CNTの高純度製造技術を確立 0403電子応用

世界初、印刷エレクトロニクスに最適な半導体型CNTの高純度製造技術を確立

2018年度から名城ナノカーボンがサンプル販売開始 2018-02-08 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構,日本電気株式会社,国立研究開発法人産業技術総合研究所,株式会社名城ナノカーボン NEDOプロジェクトの成果をもとに...
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