0403電子応用

p波磁性体と呼ばれる新しいタイプの磁性体を実現~電流を用いた高効率な磁化制御などへ期待~ 0403電子応用

p波磁性体と呼ばれる新しいタイプの磁性体を実現~電流を用いた高効率な磁化制御などへ期待~

2025-10-23 理化学研究所,東京大学,高エネルギー加速器研究機構,J-PARCセンター,総合科学研究機構,日本原子力研究開発機構,科学技術振興機構理化学研究所・東京大学・高エネルギー加速器研究機構などの共同研究チームは、金属中で電子...
超伝導体を用いた熱ダイオードを開発 0403電子応用

超伝導体を用いた熱ダイオードを開発

2025-10-21 東京都立大学Web要約 の発言:東京都立大学と東京大学、物質・材料研究機構の共同研究チームは、超伝導体を利用した「熱ダイオード」を世界で初めて実証した。高純度鉛(Pb)とアルミニウム(Al)の線をハンダ接合し、超伝導転...
電子スピンのトルクを2重にして磁壁移動を実現~次世代スピントロニクスメモリの省エネルギー・高速動作に道~ 0403電子応用

電子スピンのトルクを2重にして磁壁移動を実現~次世代スピントロニクスメモリの省エネルギー・高速動作に道~

2025-10-20 東北大学東北大学金属材料研究所の関剛斎教授らの研究チームは、電子スピンによるトルク効果を2重に活用し、磁石中の磁壁を効率的に移動させることに成功した。研究では、白金(Pt)層で挟んだコバルト(Co)とイリジウム(Ir)...
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完全リサイクル可能なサブミクロン印刷電子技術(Printing Technique Could Vastly Improve the Environmental Impact of Digital Displays) 0403電子応用

完全リサイクル可能なサブミクロン印刷電子技術(Printing Technique Could Vastly Improve the Environmental Impact of Digital Displays)

2025-10-17 デューク大学Web要約 の発言:デューク大学の研究チームは、高温・真空工程を使わずにサブマイクロメートル規模のトランジスタを印刷で製造する技術を開発した。新手法「キャピラリーフロー印刷」は、極細ノズルから導電性インクを...
高精度多色レーザーをチップ上に実装(Powerful and Precise Multi-Color Lasers Now Fit on a Single Chip) 0403電子応用

高精度多色レーザーをチップ上に実装(Powerful and Precise Multi-Color Lasers Now Fit on a Single Chip)

2025-10-07 コロンビア大学コロンビア大学工学部の研究チームは、単一チップ上で複数の波長を高出力かつ高精度に発生できる「マルチカラー・レーザ」を開発した。従来は大型装置が必要だった周波数コム(等間隔の光スペクトル)を、シリコンフォト...
MRI技術を応用した量子技術開発:2D材料の応用研究(MRI technology inspires quantum advancement with 2D materials) 0403電子応用

MRI技術を応用した量子技術開発:2D材料の応用研究(MRI technology inspires quantum advancement with 2D materials)

2025-08-27 パデュー大学Web要約 の発言:パデュー大学の研究チームは、MRIやNMR(核磁気共鳴)の原理を応用し、二次元材料上で単一原子スピンを検出・制御できる新しい量子センシング技術を開発した。従来のNMRは大量分子の平均的信...
イオンゲルとグラフェンで、機械学習の計算を劇的に省力化できるAIデバイスを実現~エッジAI向け省エネ技術として期待~ 0403電子応用

イオンゲルとグラフェンで、機械学習の計算を劇的に省力化できるAIデバイスを実現~エッジAI向け省エネ技術として期待~

2025-10-14 物質・材料研究機構,東京理科大学,神戸大学,科学技術振興機構Web要約 の発言:物質・材料研究機構(NIMS)は、イオンゲルとグラフェンを組み合わせた新型AIデバイスを開発し、機械学習の計算を大幅に省力化できることを実...
量子干渉の原子レベル制御に成功(Researchers Achieve Atomic-scale Control of Quantum Interference) 0403電子応用

量子干渉の原子レベル制御に成功(Researchers Achieve Atomic-scale Control of Quantum Interference)

2025-10-13 中国科学院(CAS)中国科学院物理研究所の楊凱教授らは、単一原子スピンにおける量子干渉を全電気的に制御することに成功した。電子スピン共鳴走査トンネル顕微鏡(ESR-STM)を用い、電場によってスピンを反交差点へ高速駆動...
スパッタリングにより成膜された磁性絶縁体の電流誘起磁化反転に成功~情報機器を大幅に省エネルギー化する技術開発を加速~ 0403電子応用

スパッタリングにより成膜された磁性絶縁体の電流誘起磁化反転に成功~情報機器を大幅に省エネルギー化する技術開発を加速~

2025-10-10 九州大学九州大学の研究チームは、スパッタリング法で作製した磁性絶縁体「Y₃Fe₅O₁₂(YIG)」薄膜において、電流による磁化反転を世界で初めて実証した。これまで磁化制御には金属強磁性体が用いられていたが、絶縁体での成...
キラルイオンゲート技術を世界初実証~分子対称性によるトポロジカル表面磁性の超省電力制御に成功~ 0403電子応用

キラルイオンゲート技術を世界初実証~分子対称性によるトポロジカル表面磁性の超省電力制御に成功~

2025-10-14 東京大学東京大学生産技術研究所の松岡秀樹特任助教・金澤直也准教授らは、キラル(左右非対称)なイオン液体を用いた「キラルイオンゲート」技術を世界で初めて実証した。トポロジカル強磁性薄膜FeSi(111)に適用し、従来の非...
2Dフラッシュチップのブレークスルー(Breakthrough in 2D flash chip achieved) 0403電子応用

2Dフラッシュチップのブレークスルー(Breakthrough in 2D flash chip achieved)

2025-10-13 復旦大学復旦大学の研究チームは、世界初の「システム統合型2次元(2D)フラッシュチップ」を開発し、2D電子デバイス工学の重要な進展を達成した。超高速2DメモリをシリコンCMOS技術と統合し、8ビット命令・32ビット並列...
量子光のノイズを除去する分子コーティング技術を開発(Molecular coating cleans up noisy quantum light) 0403電子応用

量子光のノイズを除去する分子コーティング技術を開発(Molecular coating cleans up noisy quantum light)

2025-10-03 ノースウェスタン大学ノースウェスタン大学の研究チームは、量子通信や量子コンピュータに必要な単一光子源の純度を大幅に高める新手法を開発した。原子層半導体タングステンジセレナイド(WSe₂)を有機分子PTCDAで均一に被覆...
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