0403電子応用 高輝度放射光で解き明かすシリコン酸化膜の成長過程 ~ナノデバイスの世界を支配する界面欠陥とキャリア捕獲~
2022-12-19 日本原子力研究開発機構,東北大学,福井工業高等専門学校【発表のポイント】 半導体デバイスの作製には、酸化反応を制御し、欠陥の少ない良質なシリコン酸化膜を作製することが不可欠。しかし、ナノレベルの薄膜領域におけるシリコン...
0403電子応用
1700応用理学一般
1700応用理学一般
1700応用理学一般
0402電気応用
0703金属材料
1700応用理学一般
1700応用理学一般
2005放射線防護
0705金属加工
0505化学装置及び設備
2001原子炉システムの設計及び建設