0403電子応用 脱炭素を支えるSiCパワー半導体の利用拡大を規格が後押し -ウェハ欠陥試験法の国際標準化によりSiC製品の普及を促進-
月間Tii優秀記事に選定週のTii優秀記事に選定2026-10-27 産業技術総合研究所産業技術総合研究所(産総研)は、炭化ケイ素(SiC)パワー半導体の製造に用いるエピタキシャルウェハについて、X線トポグラフ法による欠陥試験方法を定めた国...
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