0505化学装置及び設備 世界初、HVPE法で6インチウエハ上への酸化ガリウム成膜に成功~パワーデバイスの低コスト化と次世代EVの省エネ化に貢献~
次世代半導体材料として注目される酸化ガリウム(β-Ga2O3)をハライド気相成長(HVPE)法によって6インチウエハ上に成膜することに世界で初めて成功しました。
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