1601コンピュータ工学 新型High-NA(高開口数）リソグラフィーが、先端半導体チップに革命をもたらす可能性
2026-06-16 沖縄科学技術大学院大学沖縄科学技術大学院大学（OIST）の新竹積教授は、次世代半導体製造の中核技術である高開口数（High-NA）EUVリソグラフィ向けに、新しい光学系設計を提案した。EUVリソグラフィは13.5nmの...
半導体製造
1601コンピュータ工学 
0110情報・精密機器 世界初の「流体力学式液中粒子計数器 PT-01F」を発売~流れ場における粒子の物性推定手法を製品化~
2026-04-03 リオン株式会社,産業技術総合研究所リオンと産業技術総合研究所、キオクシアは、流れ場粒子追跡法（FPT法）を用いた世界初の「流体力学式液中粒子計数器 PT-01F」を開発・製品化した。本装置は粒子のブラウン運動を解析し、...
0403電子応用 小型マイクロチップ開発のための新材料（New Methods for Smaller Microchips）
2025-09-12 ジョンズ・ホプキンス大学ジョンズ・ホプキンス大学の研究チームは、これまで半導体製造に使われていなかった金属有機材料をシリコンウエハーにコーティングし、高度なレーザーを用いて化学反応を誘発する新手法を開発した。これにより...
0403電子応用 真空圧検出用MEMSセンサーを開発（Researchers Develop Novel Dual-Mode MEMS Sensor for Wide-Range Vacuum Pressure Detection）
2025-07-13 中国科学院（CAS）中国科学院空天信息研究院の陳徳勇・王軍博両教授らの研究チームは、広範囲な真空圧力測定を高精度で行える新型MEMSセンサを開発した。従来のPirani計は広範囲測定可能だが精度に欠け、CDGは高精度だ...
0403電子応用 LLNL が次世代極紫外線リソグラフィー研究を先導 (LLNL selected to lead next-gen extreme ultraviolet lithography research)
2024-12-23 アメリカ合衆国・ローレンスリバモア国立研究所 (LLNL)The diagram shows high-repetition-rate laser bursts into LLNL’s Jupiter Laser Fa...
0403電子応用 高低差がナノスケールの極微小な欠陥をワンショットで3D形状に可視化する光学検査技術を開発～独自の光学機器とアルゴリズムで、半導体製造における極微小な欠陥を1枚の撮像画像から瞬時に識別～
2025-02-26 株式会社東芝,東芝情報システム株式会社概要株式会社東芝（以下、東芝）と東芝情報システム株式会社（以下、東芝情報システム）は、生産現場における外観検査において、製品の表面の極微小なナノスケール(*1)の高低差を持つ欠陥（...
0300航空・宇宙一般 NASAによるノースロップ・グラマンの20回目のミッションで、科学が宇宙ステーションに打ち上げられる(Science Launches to Space Station on NASA’s 20th Northrop Grumman Mission)
2024-01-16 NASASamples produced by the Metal 3D Printer prior to launch to the space station. ESA◆NASAと国際パートナーは、Northrop...
0110情報・精密機器 次世代半導体製造向けの極微細穴あけ加工を実現～業種横断の協働拠点で先端半導体をけん引～
2022-10-24 東京大学,味の素ファインテクノ株式会社,三菱電機株式会社,スペクトロニクス株式会社 次世代の半導体製造に資する10マイクロメートル以下を満たす、6マイクロメートル以下の穴あけを高品質かつ高生産性を維持し実現できることを...