化学気相成長法

六方晶窒化ホウ素の大面積合成とグラフェン集積デバイスを実現～大きな絶縁性二次元材料で半導体産業の未来へ貢献～

2023-02-07 産業技術総合研究所ポイントグラフェンを始めとする原子の厚みしかもたない薄いシートが次世代半導体として大きな注目を集めているが、大面積の絶縁性二次元材料が必要とされていた。本研究では六方晶窒化ホウ素と呼ばれる絶縁性...

2023-02-07

0403電子応用

無機ナノチューブの簡便な単層合成法を開発〜高効率な太陽電池や高活性な触媒などの開発への貢献が期待〜

2022-10-05 東京大学１．概要東京都立大学大学院理学研究科物理学専攻の古澤慎平（大学院生）、中西勇介助教、蓬田陽平助教、田中拓光（学部生）、柳和宏教授、宮田耕充准教授、産業技術総合研究所ナノ材料研究部門の佐藤雄太主任研究員、東京...

2022-10-05

0501セラミックス及び無機化学製品