0403電子応用 シリコン膜からの熱放射の倍増に成功 ～半導体デバイスの排熱問題の解決に期待～
2024-05-09 東京大学 ○発表のポイント： ◆高性能半導体デバイスなどの電子デバイスでは、局所的な発熱による性能や信頼性の低下が問題となっており、熱管理が課題になっています。 ◆シリコン膜の表面をわずかに酸化させることで、酸化膜界面...
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