表面フォノンポラリトン

シリコン膜からの熱放射の倍増に成功～半導体デバイスの排熱問題の解決に期待～

2024-05-09 東京大学○発表のポイント：◆高性能半導体デバイスなどの電子デバイスでは、局所的な発熱による性能や信頼性の低下が問題となっており、熱管理が課題になっています。◆シリコン膜の表面をわずかに酸化させることで、酸化膜界面の格子...

2024-05-09

0403電子応用

光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増～半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構～

2020-10-01 東京大学ポイント高集積化の進んだ半導体デバイスでは、熱を運ぶフォノンが散乱されて放熱が困難になるため、高性能化に向けて新しい放熱機構や材料が求められている。光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用い、...

2020-10-01

0403電子応用0501セラミックス及び無機化学製品1700応用理学一般