窒化シリコン薄膜

光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増 ~半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構~ 0403電子応用

光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増 ~半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構~

2020-10-01 東京大学 ポイント 高集積化の進んだ半導体デバイスでは、熱を運ぶフォノンが散乱されて放熱が困難になるため、高性能化に向けて新しい放熱機構や材料が求められている。 光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用い...
ad
タイトルとURLをコピーしました