極端紫外線リソグラフィー

LLNL が次世代極紫外線リソグラフィー研究を先導 (LLNL selected to lead next-gen extreme ultraviolet lithography research)

2024-12-23 アメリカ合衆国・ローレンスリバモア国立研究所 (LLNL)The diagram shows high-repetition-rate laser bursts into LLNL’s Jupiter Laser Fa...

2025-02-26

0403電子応用

BNL ラボにおける極端紫外線リソグラフィーの輝ける未来 (A Bright Future for Extreme UV Lithography at Brookhaven Lab)

2023-11-08 アメリカ合衆国・ブルックヘブン国立研究所(BNL)・ BNL のユーザー施設 Center for Functional Nanomaterials(CFN)が、極端紫外線(EUV)リソグラフィーによる高性能パターン作...

2024-01-12

0403電子応用