平坦性改善

界面の高品質化と平坦性向上によりSiC半導体の性能を6~80倍向上 0403電子応用

界面の高品質化と平坦性向上によりSiC半導体の性能を6~80倍向上

SiC(シリコンカーバイド)半導体で問題になっていた欠陥(不完全性)を独自の手法で大幅に低減し、実用的な構造でSiCトランジスタの性能を6倍以上向上することに成功しました。
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