フォトレジスト

マイクロエレクトロニクスの進展に寄与するハイレゾパターニング材料の強化

(Enhancing Materials for Hi-Res Patterning to Advance Microelectronics)浸透合成技術により、有機ポリマーのポリメチルメタクリレート(PMMA)と無機材料のアルミニウム酸化物を組合せたフォトレジストの製造に成功。

2019-10-26

0110情報・精密機器0403電子応用0501セラミックス及び無機化学製品0703金属材料