シリコンIGBT

両面ゲートIGBTにて62%のスイッチング損失低減に成功 0403電子応用

両面ゲートIGBTにて62%のスイッチング損失低減に成功

2020-12-06 東京大学 ○添付資料: シリコンウェハに試作された両面ゲートIGBTチップ。後ろの鏡には、裏面のパターンが確認できる。 ○発表者: 更屋 拓哉(東京大学 生産技術研究所 助手) 平本 俊郎(東京大学 生産技術研究所 教...
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