CVD

次世代半導体材料SnSの大面積単層結晶の合成技術を確立~ 光電融合デバイスや高速情報処理技術への応用が期待~ 0501セラミックス及び無機化学製品

次世代半導体材料SnSの大面積単層結晶の合成技術を確立~ 光電融合デバイスや高速情報処理技術への応用が期待~

2025-05-03 東北大学東北大学大学院工学研究科の研究チームは、次世代半導体材料として注目される一硫化スズ(SnS)の大面積単層結晶の合成技術を確立しました。高純度のスズ(Sn)と硫黄(S)を用いた化学気相成長(CVD)法により、高品...
ad
タイトルとURLをコピーしました