ALD法

次世代半導体デバイス向け高性能/高機能な多結晶酸化物半導体材料 poly-IGO ナノシートを開発~次世代半導体の高性能化・高集積化・低消費電力化に期待~ 0403電子応用

次世代半導体デバイス向け高性能/高機能な多結晶酸化物半導体材料 poly-IGO ナノシートを開発~次世代半導体の高性能化・高集積化・低消費電力化に期待~

2025-06-06 東京科学大学東京科学大学らの研究グループは、原子層堆積(ALD)法を用いて、Ga添加In₂O₃(poly-IGO)ナノシートを合成し、これをチャネル層に用いた電界効果トランジスタ(FET)を開発しました。このFETは、...
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