3マイクロメートル微細穴あけ加工

DUVレーザーで半導体基板に世界最小の穴あけ加工を実現~4法人で半導体後工程技術を開発~ 0403電子応用

DUVレーザーで半導体基板に世界最小の穴あけ加工を実現~4法人で半導体後工程技術を開発~

2024-05-31 東京大学,味の素ファインテクノ株式会社,三菱電機株式会社,スペクトロニクス株式会社発表のポイント 次世代半導体基板加工技術として不可欠な、深紫外(DUV)レーザー加工機を用いた層間絶縁膜への直径3マイクロメートルの微細...
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