0403電子応用 強誘電体二酸化ハフニウムを用いたトランジスターとメモリーの動作メカニズムを解明 強誘電体であるHfO2(二酸化ハフニウム)をゲート絶縁膜とするトランジスターがより低電圧で動作する仕組みを実験的に解明した。 2018-12-05 0403電子応用