半導体産業の成長に先駆けて汚染を防止する新しい PFAS 除去プロセス (New PFAS removal process aims to stamp out pollution ahead of semiconductor industry growth)
2024-11-07 アメリカ合衆国・イリノイ大学アーバナ・シャンペーン校イリノイ大学アーバナ・シャンペーン校の研究チームは、PFAS(ペルおよびポリフルオロアルキル物質)を水から効率的に除去・破壊する新たな電気化学的手法を開発しました。こ...