溶媒内超音波処理

サブナノ厚の半導体のみを単離する手法～ランダムに基板上へ剥離された2D半導体を短時間で選別してデバイス作製へと繋ぐ方法～

2024-01-10 東京大学発表のポイント溶媒内で超音波処理を行うことで、わずか1分という短時間でサブナノスケール厚である2次元半導体の単層を基板上に単離させることに成功しました。単層と同時に基板上に転写されてしまう99％の不要なバル...

2024-01-10

0403電子応用