極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィ

産学共同実用化開発事業ＮｅｘＴＥＰの成果 2018/12/04  科学技術振興機構,大阪大学 ,東京エレクトロン九州株式会社 ポイント 最先端半導体デバイス製造のための極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィでは、露光光源強度不足で生産性が低く、高...