極端紫外線(EUV)リソグラフィ

EUVリソグラフィの性能を向上する露光モジュールを開発 0403電子応用

EUVリソグラフィの性能を向上する露光モジュールを開発

産学共同実用化開発事業NexTEPの成果 2018/12/04  科学技術振興機構,大阪大学 ,東京エレクトロン九州株式会社 ポイント 最先端半導体デバイス製造のための極端紫外線(EUV)リソグラフィでは、露光光源強度不足で生産性が低く、高...
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