干渉リソグラフィ

干渉リソグラフィで新たな進展(Li Xinghui’s group makes new progress in interference lithography) 1600情報工学一般

干渉リソグラフィで新たな進展(Li Xinghui’s group makes new progress in interference lithography)

2025-03-23 清華大学清華大学深圳国際大学院の李興輝研究グループは、干渉リソグラフィにおける新たな露光ステッチング手法を開発しました。参照格子を用いたグローバルアライメントにより、x・y方向のアライメント誤差をリアルタイム補正し、露...
ad
タイトルとURLをコピーしました