半導体製造プロセスの不良検査

半導体製造プロセスの現像前超高速検査技術を開発～既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野～

2024-09-02 東京大学発表のポイントフォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しました。光電子顕微鏡を用いることで、検査段階を早めるだけ...

2024-09-02

1700応用理学一般