二酸化ケイ素膜

シリコンウェハ酸化膜上で原子分解能STEM観察に成功 0403電子応用

シリコンウェハ酸化膜上で原子分解能STEM観察に成功

ナノ材料の非破壊原子分解能評価のための効果的なアプローチ2019-05-27 東京大学大きさが数nmの小さなナノ材料の合成や物性評価は、ICチップの材料になるシリコンウェハ、セラミックス等のバルク基板上で実施されています。もし興味のあるナノ...
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