不二越機械工業

パワー半導体用大口径SiCウェハの高速研磨技術を開発 0705金属加工

パワー半導体用大口径SiCウェハの高速研磨技術を開発

SiCウェハの平坦化を高速で達成するラッピング技術を開発した。特に、低速度だった鏡面化工程では従来の12倍の研磨速度が得られ、枚様式加工法の鏡面研削工程に匹敵する新たなバッチ式加工技術を確立した。
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