ピュアオゾンガス

ピュアオゾンガスと水蒸気によるOHラジカル生成技術を酸化物半導体デバイス製造プロセスに適用～長期安定性に優れた半導体動作特性を確認～

2026-11-09 株式会社明電舎明電舎と産業技術総合研究所は、ピュアオゾンガスと水蒸気から生成する高反応性のOHラジカルを、酸化物半導体インジウム酸化膜（InOₓ）の低温原子層堆積（ALD）プロセスに適用した。従来のオゾンを用いた成膜で...

2026-11-10

0403電子応用