シリコン酸化膜成長

2022-12-19 日本原子力研究開発機構,東北大学,福井工業高等専門学校 【発表のポイント】 半導体デバイスの作製には、酸化反応を制御し、欠陥の少ない良質なシリコン酸化膜を作製することが不可欠。しかし、ナノレベルの薄膜領域におけるシリコ...