カラーレジスト

半導体露光プロセスのみで平面レンズを作製する手法を開発～可視光平面レンズの大量生産を可能に～

2025-01-16 東京大学発表のポイント本研究では、半導体露光プロセスのみを用いて、極めて簡便に可視光の平面レンズを作製できる手法を開発することに成功しました。 JSR株式会社の開発した特定波長を吸収するカラーレジストを使用して半導体...

2025-01-17

0110情報・精密機器