イオン注入ドーピング技術

世界初、イオン注入ドーピング技術を用いた縦型酸化ガリウムパワー半導体開発に成功

デバイス開発本格化による省エネルギー社会実現に期待 2018/12/12 新エネルギー・産業技術総合開発機構,情報通信研究機構,東京農工大学 NEDOが管理法人を務める内閣府プロジェクト「戦略的イノベーション創造プログラム（SIP）／次世...

2018-12-13

0403電子応用