アモルファスシリカ

サブナノ厚みを自在に操る:二次元シリカの新合成戦略~新規特性も発現、水解離触媒などの材料設計指針に~ 0505化学装置及び設備

サブナノ厚みを自在に操る:二次元シリカの新合成戦略~新規特性も発現、水解離触媒などの材料設計指針に~

2025-11-05 名古屋大学名古屋大学未来材料・システム研究所の山本瑛祐助教・長田実教授らは、固相界面活性剤を鋳型に用いて、非層状化合物であるアモルファスシリカの厚みを1ナノメートル未満で自在に制御できる二次元ナノシートの合成に成功した...
電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見~次世代デバイスの性能向上と省エネ化に期待~ 0400電気電子一般

電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見~次世代デバイスの性能向上と省エネ化に期待~

2025-04-14 東北大学東北大学の小野円佳教授らの研究チームは、アモルファスシリカ(SiO₂)薄膜の熱伝導率を制御する新メカニズムを発見しました。基板と相互作用することで、Si-O結合のリング構造や振動特性が変化し、熱の流れが調整可能...
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