⼤⾯積成膜技術

新規スピントロニクス材料の⼤⾯積成膜技術を開発~⾼速動作スキルミオン及びスピンデバイスの基盤技術~ 0505化学装置及び設備

新規スピントロニクス材料の⼤⾯積成膜技術を開発~⾼速動作スキルミオン及びスピンデバイスの基盤技術~

2024-01-11 九州⼤学 ポイント ⾼速制御可能なスピントロニクス材料の⼤⾯積作製⼿法を開発。 ツリウム鉄ガーネット薄膜をオンアクシススパッタリング法により作製する際、スパッタ原⼦の広がり⾓の違いが薄膜の磁気異⽅性を変化させることを解...
ad
タイトルとURLをコピーしました